SEN日森传送带式表面处理装置PM1103C-8
🔧 设备特点与工作模式
除了核心原理,PM1103C-8还有一些设计上的特点:
📝 使用注意事项
使用这类紫外线表面处理装置时,有几点需要特别留意:
清洁对象的形状:此方法主要适用于表面平坦的物体。对于有复杂立体结构或紫外线无法直接照射到的凹陷表面的物体,处理效果会受限。
材质限制:由于该技术依赖于氧化反应,因此容易被氧化的材料表面(如某些活泼金属)不适合采用此方法处理。
距离控制:清洗表面与紫外线光源的距离需要控制在适当范围内。距离过远会导致产生的臭氧在到达表面前就分解失效,影响清洗效果。
安全防护:紫外线尤其是185nm波段产生的臭氧若泄漏,可能对人体造成损害。因此,整个清洗过程必须在封闭装置中进行,并确保废气被妥善处理。
无机污垢:该方法主要针对有机污染物。如果污垢中含有无机成分,处理后可能会残留灰分,需要配合其他清洁方法(如真空除尘)进一步处理。
| 姓名 | 传送带式表面处理装置 |
|---|
| 模型 | PM1103C-8 |
|---|
| 概述 | 利用 185nm 和 254nm 光能去除纳米级有机污垢 |
|---|
| 目的 | ・各种基材的预处理 ・各种表面润湿性的改善
|
|---|
| 特征 | ・传送带类型可实现均匀照射。 ・传送带速度范围为 0.1 至 1 m/min。 |
|---|