SEN日森桌面型表面处理设备SSP16-110D
🔬 工作原理详解
SSP16-110D的工作原理基于特定波长的紫外线与空气中的氧气发生光化学反应,从而清洁和改性物体表面。这个过程主要包括以下几个步骤:
产生臭氧:设备发出的185nm波长的紫外光具有很高的能量,它能将空气中的氧气(O₂)分解并组合生成臭氧(O₃)。
分解臭氧:同时,设备发出的254nm波长的紫外光会被臭氧强烈吸收,使得臭氧(O₃)分解成为具有极强氧化活性的氧原子(O)。
分解污染物:这些高活性的氧原子能与附着在物体表面的有机污染物(如油脂、残留的光刻胶等)发生氧化反应,将污染物分子分解成水(H₂O) 和二氧化碳(CO₂) 等易挥发的小分子 。
污染物挥发:分解后的气态产物会从物体表面脱离并挥发,从而达到干式、无损伤清洗的目的 。
💡 设备特点与应用
📝 使用注意事项
使用这类紫外线表面处理设备时,有几点需要特别留意 :
污垢类型:该方法主要针对有机污染物。如果污垢中含有无机成分,处理后可能会残留灰分,需要配合其他清洁方法(如真空除尘或超声波干洗)进一步清除。
照射距离:处理时,清洗对象表面与照射光源的距离很重要。距离过远时,产生的臭氧会在到达表面前就分解失效,影响清洗效果。需要注意平台或传送带上工件的高度或厚度。
物体形状:这种处理方法主要适用于表面平坦的物体。对于有复杂立体结构或紫外线无法直接照射到的凹陷表面的物体,处理效果会受限。
材质限制:由于该技术依赖于氧化反应,因此容易被氧化的材料表面不适合采用此方法处理。
安全防护:为防止臭氧扩散对人体造成损害,整个清洗过程必须在封闭装置中进行,并确保废气被妥善处理。
| 姓名 | 桌面型表面处理设备 |
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| 模型 | SSP16-110D |
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| 概述 | 利用 185nm 和 254nm 光能去除纳米级有机污垢 |
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| 目的 | ・提高树脂表面的润湿性 ・提高粘合剂、涂料、涂层材料对树脂材料的附着力 ・各种基材的预处理 ・金属、玻璃表面的清洗、改性 ・抗蚀剂的光刻灰化、电镀前处理 |
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| 特征 | ・可以轻松进行紫外线处理。 ・照射尺寸为160 x 160毫米,因此不仅可以用于研究目的,还可以用作小型生产机器。 |
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